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        臺證實松綁晶圓廠赴大陸投資 門檻放寬為0.18微米

        2005年11月07日 15:38

          中新網11月7日電 臺“經濟部”官員7日上午低調證實官方將于今年12月中旬,開放第2與第3座8吋晶圓廠赴大陸投資,而制程技術的門檻也將一并由目前的0.25微米,進一步放寬為0.18微米,其中包括已到上海投資設廠的臺積電也適用新的規定。

          據鳳凰衛視報道,臺灣一家媒體7日指出,臺“經濟部”審議將近一年的第2與第3座8吋晶圓廠赴大陸投資案,將于今年12月中旬通過,而且在晶圓制程的技術門檻,也會由目前比較低階的0.25微米放寬到比較高階的0.18微米。對此,臺“經濟部”官員7日上午在“立法院”做出低調回應。

          “陸委會”也表示,未來也不排除更進一步開放更高階的晶圓制程赴大陸投資,或是開放IC封測廠到大陸設廠。“陸委會”官員還指出,臺積電是在2004年5月經官方批準后,第一家將8吋晶圓廠轉赴大陸投資,而未來新的制程一旦通過包括臺積電都適用。(楊明哲)

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